韩媒消息指出，台积电和三星电子都将在今年下半生产2纳米制程，但三星良率为40%，不及台积电的超过60%，而三星在吸引订单方面也遭逢挑战。
韩国前锋报报导，业界消息指出，台积电2纳米制程预定下半年在宝山厂和高雄厂生产，是该公司2纳米芯片首次采用环绕式闸极( GAA )架构。和目前的3纳米制程相比，2纳米性能估计提高10%~15%，能耗降低25%~30%，晶体管密度增加15%。
知情人士说，台积2纳米良率已突破60%，跨越稳定量产的门槛。Counterpoint Research预测，台积电2纳米的产能利用率，将在今年第4季前达到100%，速度快过之前所有制程，下单大客户估计包括苹果、高通、超微、英特尔、联发科等。
三星电子也拟于今年下半开始生产2纳米，据悉良率约为40%。尽管三星是芯片生产商中，率先采用GAA架构生产3纳米的业者，但初期阶段持续苦于低良率。该公司打算以先前采用GAA的经验，提升2纳米的稳定与产出。三星并未说明2纳米产品为何，一般预料是自家的Exynos 2600处理器，将用于2026年初发布的Galaxy S26旗舰智能机。
三星挑战在于吸引科技大客户的订单，以维持该公司先进制程的竞争力。三星于是挖角前台积电老将韩美玲（Margaret Han），来率领三星晶圆代工部门。
另外，英特尔也说，旗下的18A制程（1.8纳米）可望在下半年放量生产，相信不久后可挑战台积电和三星。 但奥勒冈州老牌报纸奥勒冈人报（Oregonian）说，英特尔已告知该州的晶圆代工厂员工，将从7月中旬开始裁员，且首波裁员将在该月底完成。