ASML最贵最先进EUV上线 英特尔18A制程已抢先导入进行生产

荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）表示，英特尔（Intel）已开始使用该公司最先进的芯片制造设备投入生产，显示这款新设备已准备好迈向扩大采用。

ASML与英特尔15日发表联合声明表示，英特尔目前正在美国奥勒冈厂使用ASML的EXE高数值孔径极紫外光微影设备（High NA EUV），生产Ultra 3处理器系列中的「部分产品」。这套设备代表ASML最新一代的先进芯片制造技术。

这对ASML而言是一项重要胜利。High NA EUV因价格高昂，被市场批评为不适合主流量产使用，而现在英特尔率先导入，可望有助于扭转外界对这套设备的印象。

晶圆代工龙头台积电曾表示，ASML的这款最新EUV价格过高，目前仍不适合用于量产，公司将在未来某个时间点才会导入这项技术。

同时间，英特尔希望借此证明自己能重夺半导体技术领导地位。该公司近年因丧失制造技术优势，导致营收下滑、市占流失，如今正致力于重振制造实力，并寻求吸引外部客户使用其晶圆厂生产芯片。

ASML的微影设备主要负责将电路图案「投印」到硅晶圆上，这是电子组件制造流程中的关键步骤。随着电路线宽已经比传统光源的波长还要小，半导体产业不得不采用更特殊的技术来提升制程。极紫外光（EUV）的应用已将设备性能推向极限，同时也使每台设备的价格攀升至数亿美元。

英特尔晶圆代工事业运行副总裁兼总经理钱德拉赛卡兰（Naga Chandrasekaran）在声明中表示：「这项里程碑反映了英特尔与ASML之间密切的技术合作，也证明High NA EUV技术已能够集成至先进半导体的量产制程中。」

英特尔目前正将High NA技术应用于旗下18A制程的一个版本。该公司是全球第一家在位于美国奥勒冈州Hillsboro研发中心安装High NA EUV机台的业者，同时也取得了首台更接近量产阶段版本的机台。