根据韩媒Ked Global报导，三星电子将斥资1.1兆韩元（约7.73亿美元），向艾司摩尔（ASML）采购两台最先进的极紫外光（EUV）微影设备，2026年中就会到货，再次押注次世代半导体制造，力图在全球芯片竞赛中夺回技术优势。
报导引述知情人士15日的说法，第一部ASML高数值孔径（high NA）EUV机台可望今年稍后交货给三星，第二台订于明年上半年交货。
消息来源表示，一台研究用的高数值孔径EUV已经在三星华城厂区运转，供研究之用，新一批机器则是首次供量产使用。这部先进设备由ASML研发，蚀刻的电路比目前这一代EUV工具薄1.7倍。
三星董事长李在镕早在2023年12月就有意采购高数值孔径EUV，看中生产2纳米以下芯片的潜力，据说已指示三星工程师加速研发兼容制程技术，以挑战台积电的技术领先地位。