中国自制DUV首度进自家产线测试 华为扮演统筹者角色

英国金融时报报导，华为扮演中国国产深紫外光（DUV）曝光机发展的统筹者，从曝光机、镜头到光源全面布局，并协助国产设备打进中芯国际（SMIC）等晶圆厂。上海业者宇量升共同开发的头一台中国自制先进DUV曝光机，更已在中芯和华为自家生产线测试，最终目标是用来生产先进AI芯片。

知情人士透露，宇量升是从和华为关系密切的新凯来分拆而成立的，目前正和上海微电子装备（SMEE）开发多款DUV原型机。中芯已测试宇量升的28纳米设备，并利用多重曝光技术生产7纳米芯片。不过，中国国产设备要达到荷兰艾司摩尔（ASML）同级机台的生产效率，可能仍需数年验证和调校。

伯恩斯坦半导体分析师林清远指出，华为正在中国DUV发展中扮演「项目管理」角色。光有原型机还不够，必须集成数千家供应商和客户共同改良设备，而华为正成为居中协调这套体系的力量。

华为的布局已深入中国曝光机最难突破的两大环节–投影镜头和高功率光源。旗下哈勃投资和华为支持的深圳远致星火，都投资超精密光学业者福建至期光子，这家福晶科技旗下的公司正开发可望取代德国蔡司（Zeiss）的曝光机镜头。哈勃也投资北京科益虹源，这家公司也正和上海微电子合作开发28纳米DUV曝光机光源，力拚取代日本极光先进雷射（Gigaphoton）和ASML旗下Cymer的产品。

不过，中制DUV距离真正取代ASML仍有一段路。宇量升目前使用的投影镜头据称仍来自蔡司，业界人士认为可能通过大陆二手市场取得；中芯虽已采购并测试国产DUV，量产仍主要仰赖ASML设备。

据报导，长鑫存储（CXMT）和长江存储（YMTC）甚至已囤积足以支应未来三年扩产的ASML DUV设备，显示中国目前仍采取双轨策略：一面靠ASML设备维持量产，一面加速验证国产机台。

林清远认为，美国出口管制反而可能迫使大陆晶圆厂更积极和本土设备商合作。若国产设备因此获得更多实际产线验证，中国曝光机技术的进展可能比外界预期更快。