日媒报导，大日本印刷株式会社（DNP）已经开发出新技术，能节省半导体先进制程用电达90%。大日本印刷预定2027年量产相关的电路模版材料，提供佳能（Canon）的纳米压印微影（NIL）芯片制造设备使用，以生产1.4纳米制程芯片。
日经说，南韩三星电子和台湾台积电和规画在2027年和2028年开始量产新世代1.4纳米芯片，两家芯片厂均对纳米压印微影设备有兴趣，但是他们的工厂设计是光学微影设备，要转换有很高门槛。
目前最先进制程芯片的制造设备，只有荷兰艾司摩尔（ASML）一家，供应极紫外光（EUV）微影设备。