南韩SK海力士前员工泄密给中企 遭判刑1年6个月

南韩法院近日对一名SK海力士前职员因涉嫌向中国企业泄露商业秘密二审判刑。韩联社9日报导，首尔高等法院判处这名前员工有期徒刑1年6个月，维持一审判决。该员工曾任职SK海力士中国法人，被控违反公司保密规定，打印、拍摄内部数据，并将部分涉及CMOS影像传感器（CIS）技术的商业秘密用于求职履历，外泄给中国企业。

韩联社引述南韩法律界9日消息指出，首尔高等法院刑事审判第10-1庭近期对涉嫌违反《产业技术保护法》、《防止不正当竞争和保护商业秘密》、背信罪的SK海力士金姓前职员判处有期徒刑1年零6个月，维持一审刑量。

报导称，该金姓前职员涉嫌在供职于SK海力士中国法人的2022年泄露公司图形传感器（CIS）相关尖端技术和商业秘密，并将其恶意利用。经查发现，金姓前职员作案前曾收到中国华为旗下海思技术有限公司跳槽提议。

报导还指，上述金姓前职员为编写履历而违反公司保安规定，从公司文档管理系统打印和拍摄商业秘密数据，并将其外泄。他并在履历中援引的部分商业秘密被外泄至中国企业。路透提到，截至目前，涉事中国企业名称尚未被公开。

而就量刑理由，南韩二审法院表示，被告人泄露的商业秘密是公司多年投入大量资源而取得的成果，若对金姓前职员从轻处罚，会削弱公司的技术研发动力，且使得海外竞争公司以人才引进为借口轻易夺取国内企业刻苦钻研的技术。但因金姓前职员承认所有嫌疑，遭泄露的大部分商业秘密已收回，这些均被视为可考虑的有利情节。

此外，韩媒「亚洲商业日报」（Asia Business Daily）报导，金某此前另被指涉嫌泄露下一代内存技术高带宽内存（HBM）的「混合键合」数据，但一审法院认定相关技术并不完全符合南韩产业通商资源部公告中的「尖端技术」定义，因此就此部分判决无罪，二审也维持原判。